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DBM视频:泄露核心配方!新宙邦前高管侵犯商业秘密获刑赔偿2000万
近日,新宙邦公告,公司前半导体事业部总经理康威侵犯商业秘密案宣判。康威在职时主导研发水性剥离液、钼蚀刻液核心配方,私自把工艺文件下载保存至私人电脑。......
近日,新宙邦公告,公司前半导体事业部总经理康威侵犯商业秘密案宣判。康威在职时主导研发水性剥离液、钼蚀刻液核心配方,私自把工艺文件下载保存至私人电脑。
2019年底他伙同他人成立新材料公司,2020年离职并签署保密协议,却口述泄露技术配方,指导新公司仿制产品对外销售。2025年新宙邦报案,2026年法院判决康威犯侵犯商业秘密罪,有期徒刑一年二个月、缓刑二年,罚金16万元。
判决前康威已赔付2000万元,该笔款项计入公司营业外收入,作为非经常性损益。
编辑:孙江涛
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